07-01/2025
In einer Zeit, in der sich die Halbleitertechnologie in Richtung Prozesse unter 3 nm entwickelt, haben sich Aluminiumoxidkeramiken (Al₂O₃-Keramiken) dank ihrer hohen Reinheit, ausgezeichneten Isolationsfähigkeit, Hochtemperaturbeständigkeit und chemischen Stabilität als Schlüsselmaterial für den präzisen Betrieb von Halbleiteranlagen etabliert.










